• 相關(guān)文章
    產(chǎn)品展示
    當前位置:首頁(yè) > 全部產(chǎn)品 > HAST高加速壽命試驗箱 > > HMDS真空烤箱
    HMDS真空烤箱

    HMDS真空烤箱

    型    號: EHMDS
    更新時(shí)間:2024-04-16

    在半導體生產(chǎn)工藝中,光刻是集成電路圖形轉移重要的一個(gè)工藝環(huán)節,涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量,涂膠工藝顯得更為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數光刻膠是疏水的,而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的,這造成光刻膠和硅片的黏合性較差,尤其是正膠,顯影時(shí)顯影液會(huì )侵入光刻膠和硅片的連接處,容易造成漂條、浮膠等,導致光刻圖形轉移的失敗,同時(shí)濕法腐蝕容易發(fā)生側向腐蝕。增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這

    產(chǎn)品詳細資料:

    一、HMDS 預處理系統的必要性:

        在半導體生產(chǎn)工藝中,光刻是集成電路圖形轉移重要的一個(gè)工藝環(huán)節,涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量,涂膠工藝顯得更為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數光刻膠是疏水的,而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的,這造成光刻膠和硅片的黏合性較差,尤其是正膠,顯影時(shí)顯影液會(huì )侵入光刻膠和硅片的連接處,容易造成漂條、浮膠等,導致光刻圖形轉移的失敗,同時(shí)濕法腐蝕容易發(fā)生側向腐蝕。增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后,經(jīng)烘箱加溫可反應生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?,其疏水基可很好地與光刻膠結合,起著(zhù)偶聯(lián)劑的作用。

    二、產(chǎn)品特點(diǎn):

    1、設備外殼采用SUS304不銹鋼材質(zhì)制作,內膽為不銹鋼SUS316L材料制成;
       采用C型不銹鋼加熱管,均勻分布在內膽外壁,內膽內無(wú)任何電氣配件及易燃易爆裝置;
       箱門(mén)采用鋼化、防彈雙層玻璃觀(guān)察窗,便于觀(guān)察工作室內物品生產(chǎn)情況。

    2、箱門(mén)閉合松緊能調節,整體成型的硅橡膠門(mén)封圈,確保箱內保持高真空度。

    3、采用PID控制,系統具有自動(dòng)控溫,定時(shí),超溫報警等,采用LCD液晶顯示,觸摸式按鈕,簡(jiǎn)單易用,性能穩定。

    4、智能觸摸屏控制系統采用PLC模塊可供用戶(hù)根據不同制程條件改變程序、溫度、真空度及每一程序時(shí)間。

    5、HMDS氣體密閉式自動(dòng)吸取添加設計,使真空箱密封性能*,確保HMDS氣體無(wú)外漏顧慮。

    6、整個(gè)內部系統采用優(yōu)質(zhì)SUS316L不銹鋼材料制作,無(wú)發(fā)塵材料,適用百級光刻間凈化環(huán)境。

    三、產(chǎn)品型號及參數:

    設備型號:EHMDS-110

    控溫范圍:RT+10~250℃

    溫度分辨率:0.1℃

    控溫精度:±0.5℃

    隔板數量:2塊(標配)

    真空度:<133Pa

    真空泵:DM4(內置連接)

    設備電源:AC220/50HZ

    額定功率:3.5KW

    內膽尺寸mm:450x450x550 (W*D*H)

    外形尺寸mm:650x640x1010 (W*D*H)

    四、HMDS系列預處理系統的原理:

        HMDS預處理系統通過(guò)對烘箱HMDS預處理過(guò)程的工作溫度、處理時(shí)間、處理時(shí)保持時(shí)間等參數可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS,降低了HMDS處理后的硅片接觸角,降低了光刻膠的用量,提高光刻膠與硅片的黏附性。

    五、HMDS系列預處理系統的一般工作流程:

        首先確定烘箱工作溫度。典型的預處理程序為:打開(kāi)真空泵抽真空,待腔內真空度達到某一高真空度后,開(kāi)始充入氮氣,充到某低真空度后,再次進(jìn)行抽真空、充入氮氣的過(guò)程,到達設定的充入氮氣次數后,開(kāi)始保持一段時(shí)間,使硅片充分受熱,減少硅片表面的水分。然后再次開(kāi)始抽真空,充入HMDS氣體,在到達設定時(shí)間后,停止充入HMDS藥液,進(jìn)入保持階段,使硅片充分與HMDS反應。當達到設定的保持時(shí)間后,再次開(kāi)始抽真空。充入氮氣,完成整個(gè)作業(yè)過(guò)程。HMDS與硅片反應機理如圖:首先加熱到100-200,去除硅片表面的水分,然后HMDS與表面的OH一反應,在硅片表面生成硅醚,消除氫鍵作,從而使極性表面變成非極性表面。整個(gè)反應持續到空間阻止其進(jìn)一步反應。

    六、廢氣排放:

        多余的HMDS蒸汽(廢氣)將由真空泵抽出,排放到廢氣收集管道,在無(wú)廢氣收集管道時(shí)需做專(zhuān)門(mén)處理。

    選配件:

    1、增加HMDS液體瓶

    2、壓力記錄儀(帶曲線(xiàn))

    3、溫度記錄儀(帶曲線(xiàn))


    留言框

    • 產(chǎn)品:

    • 您的單位:

    • 您的姓名:

    • 聯(lián)系電話(huà):

    • 常用郵箱:

    • 省份:

    • 詳細地址:

    • 補充說(shuō)明:

    • 驗證碼:

      請輸入計算結果(填寫(xiě)阿拉伯數字),如:三加四=7
    上一篇:EGK光刻膠烘箱 下一篇:EWC光電無(wú)塵烘箱 光電潔凈烘箱
    东京无码熟妇人妻AV在线网址_免费看无码午夜福利片_一个人免费观看视频www_亚洲精品国产拍拍拍拍拍